반도체 산업의 클린룸 요구 사항은 다음과 같습니다:
1. 높은 청결 요구 사항
반도체 제조는 매우 엄격한 청정 환경을 요구합니다. 클린룸의 공기 청정도는 다양한 반도체 공정의 요구 사항에 따라 다르며, 일반적으로 Class 1 (1 입자 이하, 0.1 미크론/입방 피트)에서 Class 100 (100 입자 이하, 0.5 미크론/입방 피트)의 기준을 충족합니다.
2. 정확한 온도 및 습도 제어
반도체 재료는 온도와 습도에 매우 민감합니다. 클린룸은 20-25 °C로 엄격하게 제어해야 하며, 상대 습도는 40-60% 범위 내에서 ±1 °C 및 ±5% RH를 초과하지 않아야 합니다.
3. 안정적이고 안정적인 전원 공급 및 분배
클린룸은 전용 전원 공급 및 분배 시스템을 필요로 하여 안정적이고 중복된 전원 공급을 제공하여 공정 장비의 정상적이고 중단 없는 작동을 보장합니다. 동시에 전원 간섭을 방지하기 위해 보호 및 필터링 기능이 필요합니다.
4. 합리적인 무진 공기 흐름
클린룸은 합리적인 기류 분포와 사각 지대가 없도록 무진 공기 여과 및 순환 시스템을 갖추어 깨끗한 공기가 모든 구석구석에 도달할 수 있도록 해야 합니다. 기류 속도와 기압도 외부 공기가 역류하거나 방해하지 않도록 엄격하게 제어해야 합니다.
5. 완전한 내진 설계
반도체 공정의 안정성 요구 사항을 고려하여 클린룸은 일반적으로 외부 진동이 공정에 미치는 영향을 줄이기 위해 내진 조치를 채택해야 합니다. 기초는 충분히 안정적이어야 하며 완충 장치가 장착되어야 합니다.
6. 재료 선택은 무진 및 무공해
클린룸의 표면 재료는 무진 및 무공해여야 하며 입자를 생성하지 않아야 합니다. 스테인리스 스틸, 알루미늄 판, 강화 유리 및 기타 재료가 일반적으로 사용됩니다. 먼지 유입을 방지하기 위해 입구에 에어 커튼을 설치해야 합니다.
